小型多靶磁控溅射镀膜仪

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  • 产品规格:
  • 发货地:湖北省武汉市洪山区关山街道
关键词
磁控溅射
详细说明


1 1 腔室尺寸:Ф246×228mm(具体尺寸以设计为准),1Cr18Ni9Ti**不锈钢材质,氩弧焊接;

2 2 样品台尺寸:Ф100mm,高度:60~120mm可调,旋转:0-20r/min可调;可加热至300℃;同时可选配偏压功能;

3 3 真空系统:机械泵(TRP-12,3L/S)+进口Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s);GDC-25b电磁挡板阀,DN63mm 限流阀;

4 极限真空:8.0×10-5Pa;

5 真空抽速:大气~8×10-4Pa ≤ 30min;

6 真空测量:全量程复合真空计,测量范围:105Pa~10-5Pa;

7 磁控靶:Φ2英寸3只(含靶挡板),兼容直流电源和射频电源;

8 溅射电源:1台500W直流溅射电源和1台300W全自动匹配射频电源;

9 质量流量计:进口10sccm、50sccm 控制器各一套;

10 10 膜厚控制系统:进口Inficon SQM-160单水冷探头,精度0.1Å(选配);

11 11 控制方式:PLC+触摸屏智能控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能;

12 12 设备外形:L60cm×W60cm×H96cm机电一体化机架,预留1个CF35法兰接口;

  13 设备供电总功率≤2KW,220V,单相三线制(一火一零一地);

14       14  冷却循环系统:水压0.2~0.4MPa,水温10~25℃,给设备相关需水冷部件提供稳定的制冷水;



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